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守古田

Observed institution: Kochi University of Technology

OpenAlex ID: A5044746589

低温形成した陽極酸化アルミナ絶縁膜の膜物性評価とそのデバイス応用 (電子デバイス研究会ディスプレイに関する技術全般 Lcd(バックライトを含む),pdp,有機/無機el,crt,fed,vfd,ledなどのディスプレイ,並びに照明などの光源に関するデバイス,部品・材料及び応用技術、並びに評価全般)

2020 · 守哉河野, 大地是友, et al. · Medical Entomology and Zoology

非晶質酸化物半導体In-Ga-Zn-Oヘテロ接合チャネル薄膜トランジスタ

2019 · 守古田, 大地是友, et al.

ミストCVD法によるGaSnO薄膜を用いたデバイス (シリコン材料・デバイス)

2018 · 雄太滝下, 澄夫杉崎, et al. · IEICE technical report. Speech

Ga-Sn-O薄膜の熱電特性及び構造のアニール依存性

2018 · 翼池口, 達也荒牧, et al.

招待講演フレキシブルデバイスに向けた低温プロセス自己整合型InGaZnO薄膜トランジスタ (有機エレクトロニクス)

2016 · 守古田, 達也戸田, et al. · IEICE technical report. Speech

デバイスシミュレーションによるIn-Ga-Zn-O薄膜トランジスタのキャリア輸送メカニズムの解析 : バックチャネルキャリア濃度の影響 (シリコン材料・デバイス)

2016 · 大地是友, 達也戸田, et al. · IEICE technical report. Speech

招待講演フレキシブルデバイスに向けた低温プロセス自己整合型InGaZnO薄膜トランジスタ (シリコン材料・デバイス)

2016 · 守古田, 達也戸田, et al. · IEICE technical report. Speech

デバイスシミュレーションによるIn-Ga-Zn-O薄膜トランジスタのキャリア輸送メカニズムの解析 : バックチャネルキャリア濃度の影響 (有機エレクトロニクス)

2016 · 大地是友, 達也戸田, et al. · IEICE technical report. Speech

Device simulation analysis of carrier transport in In-Ga-Zn-O thin-film transistors : Influence of carrier concentration in back-channel region

2016 · 大地是友, 達也戸田, et al. · IEICE technical report. Speech

デバイスシミュレーションによるIn-Ga-Zn-O薄膜トランジスタのキャリア輸送メカニズムの解析～バックチャネルキャリア濃度の影響～

2016 · 大地是友, 達也戸田, et al.

フッ素による酸化物In-Ga-Zn-O薄膜トランジスタの欠陥終端効果と信頼性に及ぼす影響 (シリコン材料・デバイス)

2015 · 守古田, 晶鑫蒋, et al. · IEICE technical report. Speech

フッ素による酸化物In-Ga-Zn-O薄膜トランジスタの欠陥終端効果と信頼性に及ぼす影響 (有機エレクトロニクス)

2015 · 守古田, 晶鑫蒋, et al. · IEICE technical report. Speech

フッ素による酸化物In-Ga-Zn-O薄膜トランジスタの欠陥終端効果と信頼性に及ぼす影響

2015 · 守古田, ジンシンジャン, et al.

C-9-9 酸化物半導体tftを用いたタッチパネル回路の特性解析(c-9.電子ディスプレイ,一般セッション)

2015 · 祐貴古我, 時宣松田, et al. · 電子情報通信学会総合大会講演論文集

Itzo Tftを用いたタッチパネル回路の特性解析 (電子ディスプレイ)

2014 · 祐貴古我, 時宜松田, et al. · IEICE technical report. Speech

Itzo Tftを用いたタッチパネル回路の特性解析 (シリコン材料・デバイス)

2014 · 祐貴古我, 時宜松田, et al. · IEICE technical report. Speech

Itzo Tftを用いたタッチパネル回路の特性解析(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)

2014 · 祐貴古我, 時宜松田, et al. · SIAM International Conference on Data Mining

C-9-1 酸化物薄膜トランジスタの動向とミストcvd技術(c-9.電子ディスプレイ,一般セッション)

2014 · 敏幸川原村, 守古田 · 電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集

パルス電圧ストレス下における酸化物tftの発熱劣化解析 (シリコン材料・デバイス)

2013 · 香保利木瀬, 重和苫井, et al. · IEICE technical report. Speech

溶液プロセスによる酸化物半導体tftの大気圧形成技術 (特集酸化物半導体tft最前線)

2013 · 守古田, 敏幸川原村 · ディスプレイ

15-1 有機撮像デバイスの高解像度化に向けた直接積層構造の開発(第15部門情報センシング1)

2013 · 俊克堺, 北斗瀬尾, et al. · 映像情報メディア学会年次大会講演予稿集 2013

非真空プロセス「ミストCVD法」でのIGZO/AlO_x酸化物TFTの作製とその特性

2013 · 敏幸川原村, 貴之内田, et al. · 電気学会研究会資料. EDD, 電子デバイス研究会

11-6 有機撮像デバイス用信号読み出し回路の低温形成技術(第11部門情報センシング,マルチメディアストレージ,情報ディスプレイ)

2012 · 北斗瀬尾, 俊克堺, et al. · 映像情報メディア学会冬季大会講演予稿集

Influence of Density of States of ZnO film on Electrical Properties and Reliability of ZnO Thin-Film Transistors

2012 · 守古田, 伸一島川 · 高知工科大学紀要

ミストを利用した薄膜作製技術「ミストCVD法」の開発と「a-IGZO/AlOx構造を有する酸化物TFTの大気圧形成」

2012 · 敏幸川原村, 大鵬王, et al. · Institutional Repositories DataBase (IRDB)

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