Compositional Properties and High Field Electrical Conduction of PECVD Silicon Nitride Thin Films
Year: 2024
Type: conference-paper
Authors: T. Al Moussi, C. O'Dalaigh, P. Raynaud, P. Lambkin, R. Lakshmanan, B. Chen, S. Diaham
Institutions: Centre National de la Recherche Scientifique, Université Toulouse III - Paul Sabatier, Institut National Polytechnique de Toulouse, Laboratoire Plasma et Conversion d'Energie, École Nationale Supérieure d'Électrotechnique, d'Électronique, d'Informatique, d'Hydraulique et des Télécommunications, Université de Toulouse, Analog Devices (Ireland), Analog Devices (United States)
Language: English
Subfield: Electrical and Electronic Engineering
Field: Engineering
Domain: Physical Sciences
Open Access status: closed
OpenAlex ID: W4403564059