Error modeling and analysis of dual-frequency laser interferometry in scanning beam interference lithography system
Year: 2024
Type: article
Abstract: 扫描干涉场曝光技术(SBIL)是制作单体大面积高精度光栅的有效途径，采用双频激光干涉仪反馈工作台位置进行干涉条纹的精确拼接，会不可避免地引入光栅刻线误差，导致光栅衍射波前质量降低。针对工作台的位移测量误差，分析了激光干涉仪自身结构因素引起的本征误差，提出了复杂环境下激光干涉仪本征误差的指标评价方法。建立了实际工况与经验公式相结合的死程误差和测量光程变化误差理论模型。通过构建平移和旋转算子，推导了工作台任意点旋转和平移之间的耦合关系，模拟了不同工作台姿态滚转角下的测量误差。进行了位移误差实验和光栅扫描曝光实验。实验结果表明，位移误差与理论计算结果一致，制作200 mm×200 mm光栅的衍射波前为0.278λ@632.8 nm。本文分析方法贯通了光栅衍射波前与测量误差的传递链路，为制作米级尺寸纳米精度全息光栅奠定了理论和实验基础。
Source: Chinese Optics
Authors: WANG Xin-yu, LI Wen-hao, WANG Wei, LIU Zhao-wu, JIANG Shan, ZHOU Wen-yuan, Bayanheshig
Language: English
Subfield: Mechanical Engineering
Field: Engineering
Domain: Physical Sciences
Open Access status: hybrid
OpenAlex ID: W4405014878