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貞衛山口

Observed name: 山口貞衛

OpenAlex ID: A5085642275

イオンビ-ム照射による金属薄膜の改質 (特集イオンビ-ム加工技術の開発)

1996 · 克己高広, 貞衛山口 · 放射線と産業

WSi x -CVDプロセスの反応機構―WF 6 /SiH 4 ，WF 6 /Si 2 H 6 反応系の比較―

1995 · 齊藤丈靖, 霜垣幸浩, et al. · 電子情報通信学会論文誌 C

H_2, SiH_4, Si_2H_6添加によるDCS-WSix-CVDプロセスの改善

1995 · 幸浩霜垣, 丈靖斎藤, et al. · 半導体・集積回路技術シンポジウム講演論文集

24p-W-10 PtMnSb/CuMnSb人工格子のNMRと相互拡散

1991 · 弘毅高梨, 雅人渡辺, et al. · 春の分科会講演予稿集

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