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Nanocrystallized tetragonal metastable ZrO2 thin films deposited by metal-organic chemical vapor deposition for 3D capacitors

Year: 2011

Type: article

Source: Thin Solid Films

DOI: 10.1016/j.tsf.2011.03.006

Authors: M. Brunet, H. Mafhoz Kotb, L. Bouscayrol, E. Scheid, M. Andrieux, C. Legros, S. Schamm-Chardon

Institutions: Centre National de la Recherche Scientifique, Laboratoire d'Analyse et d'Architecture des Systèmes, Université de Toulouse, Assiut University, Université Paris-Sud, Institut de Chimie Moléculaire et des Matériaux d'Orsay, Centre d’Élaboration de Matériaux et d’Études Structurales

Language: English

Topic: Semiconductor materials and devices

Subfield: Electrical and Electronic Engineering

Field: Engineering

Domain: Physical Sciences

Open Access status: green

Funder: Agence Nationale de la Recherche

Award: Eléments Capacitifs MIM à forte densité Intégrés sur Silicium pour la conversion de l'énergie

OpenAlex ID: W2018775832

FWCI: 1.517

Cites: 33

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