Work

Proximity Effect Tunnel Junctions With Barriers Formed From Amorphous Alloys

Year: 1978

Type: article

Abstract: Nous avons fabriqué des jonctions tunnel multi-réseaux dans lesquelles l'électrode de base est un alliage amorphe de Nb-Si ou de Nb-Al déposé sur une surface de niobium Ces jonctions ont une capacitance plus faible que celles fabriquées à partir de niobium pur. De plus, en-dessous du gap, nous n'observons que de très faibles courants d'excès.

Source: Le Journal de Physique Colloques

DOI: 10.1051/jphyscol:19786548

Authors: R. B. Laibowitz, C. C. Tsuei, P. Chaudhari, S. I. Raider, R. Drake, J. M. Viggiano

Institution: IBM Research - Thomas J. Watson Research Center

Language: English

Topic: Superconducting and THz Device Technology

Subfield: Electrical and Electronic Engineering

Field: Engineering

Domain: Physical Sciences

Open Access status: green

OpenAlex ID: W2049290232

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