Microwave Plasma Process for SiCN:H Thin Films Synthesis with Composition Varying from SiC:H to SiN:H in H2/N2/Ar/Hexamethyldisilazane Gas Mixture
Year: 2014
Type: article
Source: Plasma Processes and Polymers
Institutions: Centre National de la Recherche Scientifique, Institut Jean Lamour, Université de Lorraine, Centre de recherche public Gabriel-Lippmann, Institut des Matériaux Jean Rouxel, Institut d'Électronique et des Technologies du numéRique, Université Rennes 1, Université de Nantes, Université de Rennes, Nantes Université
Language: English
Subfield: Electrical and Electronic Engineering
Field: Engineering
Domain: Physical Sciences
Open Access status: closed
OpenAlex ID: W2155132245