Plasma-based sources of extreme ultraviolet radiation for lithography and mask inspection
Year: 2018
Type: article
Abstract: Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН), Абраменко Д.Б., Анциферов П.С., Астахов Д.И., Виноходов А.Ю., Вичев И.Ю., Гаязов Р.Р., Грушин А.С., Дорохин Л.А., Иванов В.В., Ким Д.А., Кошелев К.Н., Крайнов П.В., Кривокорытов М.С., Кривцун В.М., Лакатош Б.В., Лаш А.А., Медведев В.В., Рябцев А.Н., Сидельников Ю.В., Снегирев Е.П., Соломянная А.Д., Спиридонов М.В., Цыгвинцев И.П., Якушев О.Ф., Якушкин А.А.
Source: Uspekhi Fizicheskih Nauk
Authors: D.B. Abramenko, P.S. Antsiferov, D.I. Astakhov, Aleksandr Yu. Vinokhodov, Il'ya Yu. Vichev, R.R. Gayazov, Aleksandr S. Grushin, L.A. Dorokhin, Vladimir V. Ivanov, Dmitrii A. Kim, Konstantin N. Koshelev, Pavel V. Krainov, Mikhail S. Krivokorytov, Vladimir M. Krivtsun, B.V. Lakatosh, Aleksandr A. Lash, Vyacheslav V. Medvedev, Aleksandr N. Ryabtsev, Yu.V. Sidel'nikov, E.P. Snegirev, Anna D. Solomyannaya, Maksim V. Spiridonov, Il'ya P. Tsygvintsev, Oleg F. Yakushev, A.A. Yakushkin
Language: English
Subfield: Electrical and Electronic Engineering
Field: Engineering
Domain: Physical Sciences
Open Access status: diamond
OpenAlex ID: W2895812590