Escalamiento dinámico y cinética de rugosidad en películas delgadas de PZT/SI(100)
Year: 2006
Type: article
Abstract: Se realizo un estudio del escalamiento dinamico y la cinetica de rugosidad usando imagenes de Microscopia de Fuerza Atomica (AFM) de peliculas delgadas de Pb(Zr0.48Ti0.52)O3 (PZT) sobre substratos de Si(100). Las peliculas fueron crecidas por la tecnica de Magnetron RF-sputtering en altas presiones de oxigeno y a una temperatura de substrato aproximada de 600°C variando el tiempo de deposicion y manteniendo los otros parametros de deposicion constantes. Usamos un algoritmo del cual se puede extraer a partir de las imagenes de AFM el valor cuantitativo de los parametros de rugosidad, es decir, la rugosidad cuadratica media (s(l)), la longitud de correlacion (x||), y el exponente de rugosidad (a). En este trabajo reportamos la dependencia de los parametros que describen la rugosidad con el tiempo de deposicion de las capas de PZT. Reportamos valores de a~0.7 que se mantienen para los diferentes tiempos de deposicion (entre 15 y 60 minutos). Se obtuvo evidencia de escalamiento anomalo con un exponente local de aloc~0.55. Estos valores estan en acuerdo con el modelo de crecimiento no lineal que toma en cuenta la difusion superficial (LDV).
Language: Spanish
Subfield: Condensed Matter Physics
Field: Physics and Astronomy
Domain: Physical Sciences
Open Access status: diamond
OpenAlex ID: W73289758