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Chr. Weißmantel

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Reactive film preparation

1976 · Chr. Weissmantel · Thin Solid Films · 82

Some trends in preparing film structures by ion beam methods

1978 · G. Gautherin, Chr. Weissmantel · Thin Solid Films · 75

Mechanical properties of hard carbon films

1979 · Chr. Weissmantel, C. Schürer, et al. · Thin Solid Films · 70

Characterization of hard carbon films by electron energy loss spectrometry

1979 · Chr. Weissmantel, K. Bewilogua, et al. · Thin Solid Films · 55

Film preparation using plasma or ion activation

1979 · Chr. Weissmantel · Thin Solid Films · 43

Ion beam sputtering and its application for the deposition of semiconducting films

1972 · Chr. Weissmantel, O. Fiedler, et al. · Thin Solid Films · 40

Ion-beam etching and sputtering of polytetrafluoroethylene (PTFE)

1974 · M. Rost, H.-J. Erler, et al. · Thin Solid Films · 25

Electrical properties of ion beam sputtered silicon layers on spinel

1976 · H.J. Hinneberg, M. Weidner, et al. · Thin Solid Films · 15

Structure of aluminium oxide films deposited by d.c. reactive sputtering

1980 · B. Goranchev, V. Orlinov, et al. · Thin Solid Films · 11

Electrical and structural properties of ion beam sputtered silver-SiO2 cermet films

1978 · P. Reinhardt, C. Reinhardt, et al. · Thin Solid Films · 7

A study of the frictional, wear and contact resistance performance of tin alloy coatings

1983 · W. Baumann, W. Degner, et al. · Thin Solid Films · 6

Ion beam nitriding of iron

1979 · G. Reisse, U. Ebersbach, et al. · Thin Solid Films · 6

In-situ-Beobachtungen von Sputtering-Prozessen im Elektronenmikroskop

1971 · J. Herberger, K. Lehnert, et al. · physica status solidi (a) · 4

Flash-Lamp-Induced Crystal Growth of Silicon on Amorphous Substrates Using Artificial Surface-Relief Structures

1982 · W. Scharff, J.-W. Erben, et al. · physica status solidi (a) · 3

Einfluss der verfahrensparameter auf die topographie von isolatorschichten bei niedertemperatur-CVD-prozessen

1975 · R. Möller, L. Fabian, et al. · Thin Solid Films · 3

Nucleation and crystal growth during sulphidation and oxidation of thin zinc and cadmium films

1970 · Chr. Weissmantel, G. Hecht, et al. · Kristall und Technik · 3

Abbildungserscheinungen an Isolatorschichten im Elektronenspiegelmikroskop unter stationären Aufladungsbedingungen

1975 · G. Weidner, Chr. Weissmantel, et al. · Kristall und Technik · 2

Ionenstrahlgestäubte GaAs‐Schichten auf verschiedenen einkristalline Substraten

1975 · G.‐R. Absch, G. Hecht, et al. · Kristall und Technik · 2

Zur Abbildung von Isolierschichtdefekten im Elektronenspiegelmikroskop

1975 · G. Weidner, Chr. Weissmantel, et al. · Kristall und Technik · 1

ChemInform Abstract: REPRESENTATION AND ANALYSIS OF CORROSION PHENOMENA ON NOBLE METAL‐COATED CONTACT MATERIALS

1983 · H. GRAICHEN, G. OERTEL, et al. · ChemInform

Abbildung und Analyse von Korrosionserscheinungen an edelmetallbeschichteten Kontaktwerkstoffen

1983 · H. Graichen, G. Oertel, et al. · Zeitschrift für Physikalische Chemie

Flash-Lamp-Induced Crystal Growth of Silicon on Amorphous Substrates Using Artificial Surface-Relief Structures

1982 · W. Scharff, J.-W. Erben, et al. · De Gruyter eBooks

Quasi-amorphe Schichtstrukturen als Werkstoffe

1979 · Chr. Weißmantel · De Gruyter eBooks

Quasi-amorphe Schichtstrukturen als Werkstoffe

1979 · Chr. Weißmantel · De Gruyter eBooks

Buchbesprechung

1978 · Chr. Weissmantel · Kristall und Technik

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