Montagem E Caracterização Do Sistema De Deposição Assistida Por Feixe De Íons
Year: 2008
Type: article
Abstract: A deposicao assistida por feixe de ions (“ion beam assisted deposition”, IBAD) e um metodo de revestimento que combina um metodo de deposicao de filme fino como evaporacao com irradiacao simultânea por feixe de ions energeticos extraido de uma fonte de ions. Uma combinacao de uma fonte de ions e um evaporador faz o metodo IBAD controlavel, reproduzivel e flexivel, sendo os parâmetros de deposicao tais como fluxo de ions, energia de ions, ângulo de incidencia do feixe de ions e taxa de evaporacao, controlados independentemente. Para utilizar essa vantagem desse metodo e obter as condicoes de processo otimizadas, e requerido caracterizar principalmente a fonte de ions. No presente trabalho, sera descrito um sistema IBAD montado e instalado no Instituto de Fisica da Universidade de Sao Paulo.
Authors: Karina C. Lopes, Makoto Matsuoka, W. Sucasaire, J.C.R. Mittani, C. C. Perego, A. C. Tromba, O. B. de Morais, A. O. R. Meira
Language: Portuguese
Subfield: Surfaces, Coatings and Films
Field: Materials Science
Domain: Physical Sciences
Open Access status: diamond
OpenAlex ID: W2555257571