A 45 nm CMOS node Cu/Low-k/ Ultra Low-k PECVD SiCOH (k=2.4) BEOL Technology
Year: 2006
Type: conference-paper
Authors: S. Sankaran, S. Arai, R. Augur, M. Beck, G. Biery, T. Bolom, G. Bonilla, O. Bravo, K. Chanda, M. Chae, F. Chen, L. Clevenger, S. Cohen, A. Cowley, P. Davis, J. Demarest, J. Doyle, C. Dimitrakopoulos, L. Economikos, D. Edelstein, M. Farooq, R. Filippi, J. Fitzsimmons, N. Fuller, S. M. Gates, S. E. Greco, A. Grill, S. Grunow, R. Hannon, K. Ida, D. Jung, E. Kaltalioglu, M. Kelling, T. Ko, K. Kumar, C. Labelle, H. Landis, M.W. Lane, W. Landers, M. Lee, W. Li, E. Liniger, X. Liu, J. R. Lloyd, W. Liu, N. Lustig, K. Malone, S. Marokkey, G. Matusiewicz, P. S. McLaughlin, P. V. McLaughlin, S. Mehta, I. Melville, K. Miyata, B. Moon, S. Nitta, D. Nguyen, L. Nicholson, D. Nielsen, P. Ong, K. Patel, V. Patel, W. Park, J. Pellerin, S. Ponoth, K. Petrarca, D. Rath, D. Restaino, S. Rhee, E.T. Ryan, H. Shoba, A. Simon, E. Simonyi, T.M. Shaw, T. Spooner, T. Standaert, J. Sucharitaves, C. Tian, H. Wendt, J. Werking, J. Widodo, L. Wiggins, R. Wisnieff, T. Ivers
Language: English
Field: Materials Science
Domain: Physical Sciences
Open Access status: closed
OpenAlex ID: W2013408554